Wet Processing
Ozonated and Ultrapure Water Delivery Solutions for
Semiconductor Applications
- Wet chemical cleaning and conditioning of wafer surfaces is a critical process step in most.
- The Ozonated Water Reclaim System provides a cost-effective solution.

Hydrogenated and Ultrapure Water Delivery Solutions for
Semiconductor Applications
- 반도체, 액정표시장치 등의 피세정물을 환원성 가스인 수소 가스를 용정 하여 세정액으로 사용함.
- 초순도 수소수는 유기물 및 미립자, 금속이온, 음이온, 용존 산소 제거에 효과적임.
- 암모니아 Doping으로 Conductivity 제어하여 초 미립자 제거에도 효과적임.
- 미립자 재 부착 방지를 위해서 Glass/Wafer 표면과 미립자의 표면 전위를 동부호화하여 반발시킴.
- 종전에는 이런 재 부착 방지를 위해서 세정액의 PH를 높게 하여 강알칼리가 필요했으며 이로 인해
Glass/ Wafer 표면에 필요 이상 거칠어지는 문제 발생. - 하지만 수소수 세정액은 PH 중성 부근에서도 Glass/Wafer 표면 및 미립자의 표면 전위를 마이너스로 대전하여 전기적 반발에 의한 미립자 재 부착 방지.
